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關(guān)注:1
2013-05-23 12:21
求翻譯:The monomers in Table 1 shall not be present in polymers present in accessible parts of a finished product. However, the presence of traces of these monomers is allowed provided that such presence is technically unavoidable under good manufacturing practice to minimize the residue of monomers, the relevant manufacturin是什么意思?![]() ![]() The monomers in Table 1 shall not be present in polymers present in accessible parts of a finished product. However, the presence of traces of these monomers is allowed provided that such presence is technically unavoidable under good manufacturing practice to minimize the residue of monomers, the relevant manufacturin
問題補充: |
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2013-05-23 12:21:38
表1單體不得在訪問部分成品目前在聚合物。然而,這些單體的痕跡存在被允許提供良好生產(chǎn)規(guī)范下,這種存在是技術(shù)上不可避免地減少單體殘留,應(yīng)適用有關(guān)的生產(chǎn)實踐,但不限制:
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2013-05-23 12:23:18
表1中的單體是不得可進入的地區(qū)目前聚合物一成品。 但是,存在的痕跡,但這些單體是允許這種存在是在良好的生產(chǎn)實踐,在技術(shù)上無法避免的殘留物降到最低的單體、制造實踐的相關(guān)應(yīng)用的,但不應(yīng)限制為:
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2013-05-23 12:24:58
單體在表1不會是存在聚合物當(dāng)前在完成品的容易接近的部分。 然而,這些單體蹤影出現(xiàn)不允許,在這樣存在是技術(shù)上難免的下面好制造業(yè)慣例使單體減到最小條件下殘滓,相關(guān)的制造業(yè)實踐將是沒有應(yīng)用,而是極限:
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2013-05-23 12:26:38
在表 1 中的單體不應(yīng)存在于聚合物目前訪問地區(qū)的成品。但是,允許這些單體的痕跡的存在前提是這種存在技術(shù)上不可避免的優(yōu)良制造規(guī)范,以盡量減少的單體殘留下,有關(guān)制造實踐須應(yīng)用,但不是限制:
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2013-05-23 12:28:18
表 1 中的單體在聚合體中將不是存在的在一件成品的可接近的部分的禮物。然
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