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關注:1
2013-05-23 12:21
求翻譯:700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the Finally, the thin film layers were annealed at 700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the desired structure. After deposition, the rest of the solutionwas dried at 100 °C, providing powders with the same composition as the thin films.是什么意思?![]() ![]() 700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the Finally, the thin film layers were annealed at 700 °C for 4 h under a dry oxygen flux in order to obtain the desired structure. After deposition, the rest of the solutionwas dried at 100 °C, providing powders with the same composition as the thin films.
問題補充: |
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2013-05-23 12:21:38
700°C在為了獲得4小時干燥的氧氣通量下,終于,薄膜層進行退火700°C下干燥的氧氣通量為4小時,以獲得所需的結構。沉積后,其余的solutionwas在100°C干燥,粉體與薄膜的成分相同。
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2013-05-23 12:23:18
700°c4h在一個干燥氧氣助焊劑,以獲得最后,薄膜層退火在700°c4h在一個干燥氧氣助焊劑,以獲得想要的結構。 沉積后,其余的solutionwas干燥的100°c,與相同,組成提供粉末的薄膜。
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2013-05-23 12:24:58
700 °C為4 h在干燥氧氣漲潮之下為了獲得終于,薄膜層數鍛煉在700 °C為4 h在干燥氧氣漲潮之下為了得到期望結構。 在證言以后, solutionwas的其余烘干了在100 °C,提供粉末以構成和薄膜一樣。
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2013-05-23 12:26:38
為了獲得干燥氧氣流量下 4 小時 700 ° C 的薄膜層被最后,在 700 ° C 下干燥氧氣流量 4 小時退火為了獲得所需的結構。后沉積,其余的 solutionwas 干 100 ° c,提供作為薄膜材料的相同成分的粉末。
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2013-05-23 12:28:18
對于在干氧氣變遷下的 4 h 的 700 ° C 以獲得最終,薄電影分
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