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  • 匿名
關注:1 2013-05-23 12:21

求翻譯:500 nm-thick layer of SiO2 is deposited by ionic sputtering over the first metallisation,是什么意思?

待解決 懸賞分:1 - 離問題結束還有
500 nm-thick layer of SiO2 is deposited by ionic sputtering over the first metallisation,
問題補充:

  • 匿名
2013-05-23 12:21:38
離子濺射沉積500 nm厚的SiO2層在第一金屬化,
  • 匿名
2013-05-23 12:23:18
500納米厚的sio2層交存的深層離子濺射法在第一個銀金屬化適用于鉗位。
  • 匿名
2013-05-23 12:24:58
離子飛濺放置SiO2 500 nm厚實的層數第一金屬化,
  • 匿名
2013-05-23 12:26:38
500 nm 厚層的 SiO2 被濺射離子在第一次敷,
  • 匿名
2013-05-23 12:28:18
SiO2 的 500 nm 擁擠的層被儲存所作離子在第一用金屬處理上噴濺,
 
 
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