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關(guān)注：1
2013-05-23 12:21
求翻譯：A first metallic deposition of 5 nm Cr and 150 nm Au for the interdigitated electrodes is made using a lift-off technique是什么意思？ 待解決
 懸賞分：1
- 離問(wèn)題結(jié)束還有
A first metallic deposition of 5 nm Cr and 150 nm Au for the interdigitated electrodes is made using a lift-off technique
問(wèn)題補(bǔ)充： |
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2013-05-23 12:21:38
第一個(gè)5 nm的鉻和150納米金為叉指電極金屬沉積使用升空技術(shù)
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2013-05-23 12:23:18
一個(gè)第一次金屬沉積5納米的cr和150納米auinterdigitated電極的采用了脫技術(shù)
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2013-05-23 12:24:58
第一金屬證言毫微米Au為interdigitated電極的5毫微米哥斯達(dá)黎加和150使用離地升空技術(shù)被做
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2013-05-23 12:26:38
第一次的金屬沉積的 5 nm Cr 和 150 nm 非盟指形電極由使用剝離技術(shù)
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2013-05-23 12:28:18
第一 5 nm 對(duì)被 interdigitated 的電極為的 Cr 和 150 nm Au 的金屬的沉積物使用一項(xiàng)發(fā)射技術(shù)被做出
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